Laboratorio Deposizioni CVD

Nel laboratorio sono attualmente presenti due apparati per la modifica delle superfici e la deposizione di rivestimenti sottili, un Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), per deposizioni di rivestimenti a base di carbonio (Diamond-Like Carbon based) e modifica via plasma delle proprietà di superficie di materiali organici, inorganici, termo-sensibili come polimeri, tessuti, carta, e un Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), per deposizioni di film sottili a base ossidica (TiO2, SnO, TixSnyO) ad alte temperature e cristallinità. In fase di completamento, nell’ambito del finanziamento per le Grandi Infrastrutture del CNR, la realizzazione di un Apparato multifunzionale a camere cubiche PVD-CVD-DBD, che permette processi di deposizioni di film sottili layer/ multilayer e/o trattamenti su substrato, predisposto per lavorare in modalità Roll- to-Roll.

I coating realizzati con queste tecnologie possono trovare applicazioni come rivestimenti protettivi/funzionali nei settori del manufatturiero, del packaging e dei beni culturali, come materiali attivi nella preparazione di membrane adsorbenti selettive per il settore ambientale, per la fabbricazione di smart textiles con proprietà self-cleaning e flame retardant o come componenti attivi per la preparazione di materiali nella bio-sensoristica e nella microelettronica.

Laboratorio di funzionalizzazione di superfici e deposizione di film sottili (Ref. Dr.ssa D. Caschera, R.G. Toro; daniela.caschera@cnr.it, robertagrazia.toro@cnr.it)