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Martedì, 12 Ottobre 2021 09:59

CONFERIMENTO DI N° 1 ASSEGNO SENIOR

PUBBLICA SELEZIONE PER IL CONFERIMENTO DI N° 1 (UNO) ASSEGNO PER LO SVOLGIMENTO DI ATTIVITÀ DI RICERCA NELL’AMBITO DEL PROGRAMMA DI RICERCA “‘photonic system for Adaptable muLtiple-analyte monitoring of fOod-quality’ — ‘h-ALO – Grant Agreement 101016706” – CUP B39C20000750006 

Mister Smart Innovation, società consortile pubblico-privata attiva dal 2009 che ha come socio di riferimento il Cnr al 31,5% ha stretto una joint venture con Welldone Global Advisory, neonata piattaforma di consulenza di corporate finance a supporto di Pmi e startup nella ricerca di capitali e finanziamenti. 

L'ISMN-Bologna nasce originariamente come laboratorio di spettroscopia ottica. In particolare nel corso degli anni, l'Istituto ha acquisito e sviluppato strumentazioni all'avanguardia che hanno permesso sia la caratterizzazione su scala microscopica di dispositivi optoelettronici o loro componenti sia studi di base delle proprietà dei meccanismi che determinano le caratteristiche fisico chimiche di materiali avanzati.

Le facilities disponibili comprendono:

Laboratorio di spettro-microscopia confocale di fluorescenza risolta in tempo (risoluzione spaziale <500nm; risoluzione temporale 2psec) con la possibilità di effettuare misure localizzate (mappe) in tempo reale di proprietà funzionali quali fotoluminescenza, corrente e foto-corrente su dispositivi optoelettronici funzionanti fino a 4 K.

Laboratorio di spettroscopia vibrazionale Raman e IR. Il laboratorio è equipaggiato con uno spettrometro micro-Raman confocale con eccitazione a 632,8 514.5 e 488 nm (risoluzione spaziale di 1 micron), uno spettrometro FT-Raman con eccitazione a 1064 nm, uno spettrometro FT-IR equipaggiato con microscopio (risoluzione spaziale 25 micron) possibilità di effettuare misure risolte in tempo.

Laboratorio di spettroscopia ottica. Il laboratorio è equipaggiato con un set-up per la determinazione del profilo angolare di foto- e elettro-luminescenza, profilo angolare di spettri di assorbanza e trasmittanza, fotoluminescenza risolta in tempo (microsec-millisec), misure assolute di efficienza quantica, diagrammi di cromaticità e esperimenti di emissione spontanea amplificata e lasing e stazione elettrochimica per misure di spettroscopia di impedenza.

 

Le finalità ed obiettivi della facility:

  • Sviluppo di tecnologie top-down, bottom-up e ibride per la produzione di sistemi nanostrutturati, integrati in nano e micro dispositivi quali: componenti optoelettronici (OFET, OLED, OLET), ricoprimenti funzionali (superfici intelligenti), sensori (ottici, termici, biologici), dispositivi per lo stoccaggio d’informazione (TAG, memristori).
  • Sviluppo di sistemi optoelettronici integrati multifunzionali basati su sistemi organici ed ibridi per la nanofotonica flessibile con particolare interesse per i processi di confinamento, modulazione ed estrazione della luce.
  • Ingegnerizzazione e fabbricazione di dispositivi fotovoltaici organici ed ibridi flessibili, a basso costo e portabili. In particolare, si opera per migliorare l’efficienza, aumentare la vita media e diminuire i costi di produzione mediante processi di fabbricazione a basso impatto ambientale.

La suddetta Large Area Fabrication Facility (80 m2 in totale) è suddivisa in due porzioni: (i) la porzione a classe 100 è dedicata alla preparativa del substrato mentre (ii) la porzione a classe 10000 è dedicata alla fabbricazione di dispositivi optoelettronici organici ed ibridi mediante processi umidi e sublimazione termica.

La camera bianca di classe 100 (16 m2) è attrezzata con la strumentazione necessaria ad effettuare pulizia, funzionalizzazione e patterning di substrati che vengono implementati nella fabbricazione di dispositivi organici optoelettronici. La dotazione consiste in strumentazione per la deposizione mediante processi umidi, come ad esempio spin-coater, doctor-blade, slot-dye coating per realizzare dispositivi optoelettronici e fotonici su larga area.

In particolare, processi di litografia sono effettuati mediante mask aligner con risoluzione di fotoincisione fino a 0.5 μm su wafer e substrati di dimensioni 100 mm di diametro (wafer) e 4 pollici quadrati (substrati)

Nella zona a classe 10000, caratterizzazione optoelettronica dei dispositivi viene effettuata all’interno di una glove-box ad atmosfera controllata mediante una stazione di misura multifunzionale che permette di raccogliere segnali curve corrente-voltaggio-luminescenza con un alto rapporto segnale-rumore.

Gli evaporatori termici in alto vuoto dedicati alla deposizione di film sottili di metalli e molecole organiche sono connessi direttamente alla glove-box in modo da evitare la contaminazione di acque e ossigeno lungo l’intera filiera di fabbricazione e caratterizzazione dei dispositivi. In particolare, il sistema di evaporazione di film-sottili  in ultra-alto vuoto è controllato mediante interfaccia software e presenta 8 celle Knudsen per gli organici, 3 sorgenti per la deposizione dei metallo, e un sistema rotante di alloggiamento di substrati con area fino a 150 mm2.

Venerdì, 10 Settembre 2021 17:55

Foglia Sabrina

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